平面平晶簡單的說就是：光在平晶表面反射和被測表面反射回來的光線形成干涉現象。由于被測表面平面度的影響，干涉光線的光程差不同，因此形成干涉條紋。通過測量干涉條紋的彎曲量并計算可得被測樣品的平面度。平面平晶特別適用于計量單位、實驗室作為標準平面和樣板。

  平面平晶工作原理：

  是以光波干涉原理為基礎，利用平晶的測量面與試件的被測量面之間所出現的干涉條紋來測量被測量面的平面度。

  測量時，先使平晶邊緣輕輕地與被測表面接觸，逐漸使整個表面接觸，再調整平晶使與被測表面之間保持一微小夾角，直到出現清晰的干涉條紋為止。如干涉條紋很密而調整平晶位置又不能使干涉條紋的間距加寬，則說明被測表面或平晶上有微塵或其他雜物，應清洗。

  平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測量面、工作面的平面度。亦可用于檢定的平面零件，例如，平面光學零件、平臺、平板、導軌、密封件等。