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價格：電議
所在地：江蘇 常州市
型號：AE-100M
更新時間：2021-01-23
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公司地址：常州市新北區太湖東路9-4號軟件園D812
李(女士) 經理
納米白光干涉儀AE-100M
納米白光干涉儀AE-100M
用途：
納米白光干涉儀AE-100M結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。
特點:
● 納米深度3D檢測
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本
專業級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標準片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線性分析與區域分析等兩種方式
● 線性分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Roughness）與起伏度
● （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer）
● 區域分析方式提供圖形分析與統計分析
● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能
● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出
高速的干涉解析軟件(ImgScan)：
● 系統硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋
● 垂直高度可達0.1nm
● 高速的分析算法則，讓你不在苦候測量結果
● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇
● 平臺X、Y、Z位置數字式顯示，使檢測目標尋找快速又便利
● 具有手動/自動光調整功能以取得干涉條紋對比
● 具有的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇
● 具有解析算法則可處理半透明物體的3D形貌
● 具有自動補點功能
● 可自行設定掃描方向
納米白光干涉儀AE-100M
技術規格參數：
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型號 |
AE-100M |
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移動臺(mm) |
平臺尺寸100*100 ，行程13*13 |
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物鏡放大倍率 |
10X |
20X |
50X |
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觀察與量測范圍(mm) |
0.43*0.32 |
0.21*0.16 |
0.088*0.066 |
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光學分辨力(μm) |
0.92 |
0.69 |
0.5 |
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收光角度(Degrees) |
17 |
23 |
33 |
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工作距離 |
7.4 |
4.7 |
3.4 |
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傳感器分辨率 |
640*480像素 |
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機臺重量(kg)/載重kg |
20kg/小于1kg |
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Z軸移動范圍 |
45mm ,手動細調;可訂制150mm |
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Z軸位置數字顯示器 |
分辨力1μm |
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傾斜調整平臺 |
雙軸/手動調整 |
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高度測量 |
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測量范圍 |
100(μm)(400μm ,選配) |
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量測分辨力 |
0.1nm |
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重復精度 |
≤ 0.1％ (量測高度:>10μm) |
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≤10nm(量測高度1μm 10μm) |
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≤ 5nm(量測高度:<1μm ) |
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量測控制 |
自動 |
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掃描速度(μm/s) |
12(高) |
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光源 |
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光源類型 |
儀器用鹵素（冷）光源 |
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平均使用壽命 |
1000小時100W 500小時（150W） |
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光強度調整 |
自動/手動 |
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數據處理與顯示用計算機 |
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中央處理運算屏幕 |
雙核心以上CPU |
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影像與數據顯示屏幕 |
21"雙晶屏幕 |
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操作系統 |
Win7 |
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電源與環境要求 |
AC100 --240 V 50-60Hz |
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環境振動 |
VC-C等級以上 |
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測量分析軟件 |
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量測軟件ImgScan |
ImgScan測量軟件：具VSI/ PVSI/PSI 測量模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配） |
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分析軟件PosTopo |
ISO粗燥度/階高分析，快速傳利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D |
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