是一種用于產生等離子體的裝置，通常被用于在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，并將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源（RPS）”。

吉兆源科技有限公司是一家致力于射頻技術領域生產和研發的高科技技術企業。 公司主要研發和生產射頻電源、射頻自動匹配器及濺射用直流電源。 吉兆源與國外知名射頻企業保持著深層次的技術交流，真正了解國外射頻技術核心，吉兆源采取靈活的合作模式，國內外工程師平均設計經驗年限都大于15年，已經形成有別于其他國內射頻電源公司的差異化競爭優勢。并在延續、吸收國外設計理念、技術的基礎上研發出了國內自己的射頻產品，使公司成為國內真正搞自主研發并成功為國內客戶替換掉了多款國外射頻產品的高新技術企業，并為國內生產的高端設備射頻電源的國產化提供了可靠的國內方案。 公司產品設計理念起步于國外半導體領域，立足于國內工業生產應用，成功迎合本土化需求，多年參與半導體設備射頻電源設計、調試和服務。具有豐富的半導體設備服務能力，也以此保證了公司產品的頂端優勢。

是一種用于產生等離子體的裝置，通常被用于在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝，以及半導體刻蝕和薄膜設備的預處理反應和清洗等。與傳統等離子體源不同的是，RPS通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，并將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源RPS”。

遠程等離子體源RPS應用特征

遠程等離子體源RPS采用新的固態微波源技術【非磁控管微波源】。具有很高的頻率、功率穩定性，使用壽命長。

自主開發的微波匹配器，能實現在不同氣體條件下，快速進行微波源與等離子體的阻抗匹配。

等離子體發生器材質可選，適用于多種氣體。

遠程等離子體源RPS產品體積小、集成度高、便于更換。低顆粒污染;

獨特的等離子反應腔設計，適用于多種氣體的電離與阻抗匹配。

系統運行時，氣體壓力適應范圍寬。氣體電離率高、電離速度快。

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