NRE-3500型RIE-PE刻蝕機概述：獨立式RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13\"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2\"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持至大到12\"的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10-6 Torr 或更小的極限真

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務大中華區(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室，提供銷售和售后技術服務。 那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創立的全資子公司，是一家的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式名。 自2001年Nano-Master開始設計開發薄膜應用方面的設備，正式面世的系統依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發和電子束蒸發，離子束刻蝕和反應離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發展成為全球薄膜設備的供應商，已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發中心和國家重點實驗室。 我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務工程師、技術支持人員，使得公司擁有的服務團隊。作為薄膜工藝的設備提供商，我們的目標是提供高品質的服務并始終維持高水平的集成度。

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機概述：獨立式RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口：一個帶有2"的視窗,另一個空置用于診斷.該系統可以支持至大到12"的晶圓片。腔體為超凈設計，并且根據配套的真空泵可以達到10^-6 Torr 或更小的極限真空。該系統系統可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個節流閥,一個250l/s的渦輪分子泵,濾網過濾器,以及一個10cfm的機械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過600W,13.56MHz的電源和自動調諧器提供。系統將持續監控直流自偏壓,該自偏壓可以高達-500V.這對于各向異性的刻蝕至關重要。

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機是基于PC控制的全自動系統.系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示,流量及功率則以數字形式實時顯示.系統提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動執行程序模式(操作模式)運行系統。基于全自動的控制，該系統具有高度的可重復性。

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機產品特點：

• 鋁質腔體或不銹鋼腔體

• 支持各向同性刻蝕和各向異性刻蝕兩種刻蝕模式

• 不銹鋼立柜

• 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬

• 典型的硅刻蝕速率，400 ?/min

• 高達12"的陽極氧化鋁RF樣品臺

• 水冷及加熱的RF樣品臺

• 大的自偏壓

• 淋浴頭氣流分布

• 極限真空5x10^-7Torr，20分鐘內可以達到10^-6Torr級別

• 渦輪分子泵

• 至多支持5個MFC

• 無繞曲氣體管路

• 自動下游壓力控制

• 雙刻蝕能力：RIE以及PE刻蝕(可選)

• 終點監測

• 氣動升降頂蓋

• 手動上下載片

• 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

• 菜單驅動，4級密碼訪問保護

• 完全的安全聯鎖

• 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕

  
  

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機產品型號：

• NRE-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統，占地面積26“D x 44"W

• NRE-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統，占地面積26“D x 26"W

• NRE-3000：基于PC計算機全自動控制的臺式系統，占地面積26“D x 26"W

• NRP-4000：RIE/PECVD雙系統

• NDR-4000：深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統

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